Laboratoř mikrofluidiky projektu GET byla v úvodu roku nově vybavena kompletním technologickým řetězcem pro výrobu mikrofluidních čipů. Nové zařízení umožňuje realizaci soft litografie a výrobu struktur s rozlišením až tři mikrometry. Součástí vybavení jsou mimo jiné UV vytvrzovací jednotky UV Cube, systém pro laminaci waferů a plazmový systém. Laboratoř byla dále doplněna o spin coater pro nanášení fotorezistuů, který slouží k přípravě mikrostruktur pomocí fotolitografických masek.
Vedle klasické maskové litografie disponuje laboratoř také bezmaskovou technologií DILASE 125, která umožňuje rychlou a flexibilní přípravu návrhů mikrostruktur bez nutnosti výroby fyzických masek. Nové vybavení je již nyní propojeno se systémem micro-PIV pro měření rychlostních polí proudění v mikrokanálech. Díky tomu bude možné detailně studovat jednofázové i dvoufázové proudění a vizualizovat dynamiku proudění v mikrofluidních čipech.
Nově vybudované zázemí významně rozšiřuje experimentální možnosti projektu GET a vytváří podmínky pro vývoj pokročilých mikrofluidních aplikací a diagnostických systémů.
